一个国际团队设计了一种硅分子隔离器,该隔离器有望超过晶体管的最大尺寸,
电缆电缆并制造出更紧凑,功能更强大的计算机芯片。

自美国,中国和丹麦的研究人员团队合成了第一个纳米尺寸的绝缘硅分子,该分子可以有效地防止由于移除晶体管而产生的泄漏电流。究人员说,电流泄漏的原因是“量子隧穿隧道效应”,该效应将诸如电子之类的微观粒子推过无法通过的“壁”。

究人员认为真空屏蔽可以在晶体管之间隔离,但是当两个金属电极接近一定程度时,仍然会发生电流泄漏。
项新的研究表明,硅分子绝缘子比相同尺寸的真空屏具有更好的绝缘性。
究人员之一,美国哥伦比亚大学的李海星说,这种设计的独特之处在于位于两个电极之间的硅分子对电子传输产生量子破坏性干扰,从而确保绝缘。海兴说:“如果将电子视为波,则波谷和波谷的叠加会产生相消干涉,这意味着电子传输很弱。
究人员声称,使用硅的绝缘子与硅绝缘。
业标准,易于投入生产。


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